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技術支持

X射線熒光分析的基礎和重要的儀器性能

更新時間:2021-05-21   點擊次數:1344次

在過去,X射線熒光分析(XRF)主要用于地質學。如今,它已成為工業和實驗室的關鍵技術。這種方法非常通用:它可以檢測從鈉到鈾的所有相關化學元素

XRF通常用于材料分析,即確定樣品中給定物質的含量,如測量珠寶中的黃金含量或根據《有害物質限制》(RoHS)指令檢測日常物品中的有害物質。此外,可以使用XRF測量鍍層的厚度:它快速、環保且無損。

 

這就是測量是如何進行的

當X射線設備開始測量時,X射線管會發出高能輻射,這也被稱為‘初級’輻射。當這些X射線擊中樣品中的一個原子時,它們會增加能量–即它們“激發”原子 - 使原子向其原子核附近發射電子,這個過程被稱為“電離”。由于這種狀態是不穩定的,一個來自更高電子層的電子移動來填充空隙,從而發射出“熒光”輻射。

這種二次輻射的能量水平類似指紋一樣:它是每個元素的特征。探測器接收熒光并將信號數字化。在信號經過處理后,設備產生一個光譜:檢測到的光子的能級在x軸上繪制,其頻率(計數率)在y軸上繪制。樣品中的元素可以從光譜中波峰的位置(x軸方向)來識別。這些峰的水平(y軸方向)提供了有關元素濃度的信息。

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